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Megasonic Cleaning Nozzle

Using higher frequency energy with accelerrated water molecules,submicron level cleaning is possible, without damaging sensitive microelectronicdevice.

 

Applications:

cleaning of liquid crystal displays(LCDs),

flat paneldisplays(FPDs),sillicon(or GaAs,sapphire,etc.) 

wafers(post-CMP,prediffusion,etc.),

photomasks,

reticules and numerous other applications where submicron particle removal is required.

There is no worry of the re-adhesion of dirt in the liquid to always to supply a cleancleaning solution.

Minute dirt is instaneously removed for the high frequency oscillation.

It is possible to wash it at ease by the output adjustment even by the one like the magnetic head that cracks easily.